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TF-1200-PECVD等離子增強化學(xué)氣相沉積系統
TF-1200型等離子增強化學(xué)氣相沉積系統滑軌式設計在操作時(shí)可將實(shí)驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個(gè)快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置，可準確的控制反應腔體內部的氣體壓力，帶刻度的調節閥對于做低壓CVD非常簡(jiǎn)單實(shí)用，工藝重復性好，對于石墨烯生長(cháng)工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實(shí)驗。 查看更多
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